【半導体製造装置メーカー】レーザーテックの特徴を徹底解説

レーザーテックは、1960年に設立された「有限会社東京ITV研究所」を源流とします。1962年に前身となる「日本自動制御株式会社」を設立されました。主に半導体検査装置の開発・製造・販売を手掛けており、その製品は高い評価を受けています。

創業以来、「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」という経営理念を掲げており、売上の10％を研究開発に投じ、全従業員の7割がエンジニアという研究開発にウェイトを置いた経営体制を取っています。

会社情報は下記の通りです。

次に直近3年の業績です。

売上高・利益で過去最高を更新しています。さらに2024年6月期でも過去最高を予想しています。

また、2023年6月期の営業利益率は40.8%と非常に高いところが特徴です。

レーザーテックは、先端半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査装置を柱としている半導体製造装置メーカーです。

マスク欠陥検査装置とは、微細なパターンを半導体ウェーハ上に転写するリソグラフィー工程で使用するフォトマスクに傷や異物などの欠陥が無いかを検査する装置です。フォトマスクに欠陥があった場合、間違ったパターンが転写されてしまい、製品の不具合に繋がります。

またマスクブランクスとは、ガラス基板上に金属膜と感光膜をコーティングしたものです。 これに回路パターンを形成したものがフォトマスクです。

レーザーテックは独自の光応用技術で画期的な製品を開発しています。

全焦点で高精細な3次元画像が得られる「共焦点光学系技術」、半導体リソグラフィの微細化に伴う光源の短波長化に適応した「DUV/EUV光学系技術」、光の位相のわずかなずれを正確に測定する「光干渉計技術」を独自に開発しました。

これら3つをコアとして、エレクトロニクスや精密機構、画像処理技術を組み合わせて市場のニーズに答えてきました。

その結果、マスク欠陥検査装置で世界シェアを80%以上、特にEUVマスクブランクス欠陥検査装置は世界シェア100%となっています。

技術革新のスピードが速い半導体業界では、半導体製造装置の開発もスピードが求められます。

レーザーテックでは、エンジニアが製品の開発だけではなく、企画、要素技術研究、設計、試作、製品開発、製造、納品、立ち上げ、アフターケアまでのプロセスを全て担います。

エンジニアが様々な経験を積むことで、素早い行動と最速の製品開発を可能にしています。

「ファブライト」とは、完全に工場を持たない「ファブレス」に対して、最低限の製造設備を自社で所有する企業の戦略を指します。ファブレス企業が製造を完全に外部に委託するのに対し、ファブライト企業は重要な製造工程や技術を自社で保持し、その他の製造工程は外部に委託することで、柔軟性とコントロールを両立させています。

レーザーテックでは、社員の約7割がエンジニアで開発に特化し、継続的な新製品開発を可能にしています。

また試作品は自社で製作し、生産に適した設計を実現しています。

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